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引见污染工程要控制温湿度有哪些步伐

  污染工程干净室的温湿度次要是依据您的加工工艺要求来确认,在契合加工工艺的条件下,应先应该思索人的感觉。随着氛围干净度要求的上升,工艺对温湿度的要求也越来越高,到达温湿度要求。比方在大范围集成电路消费的光刻曝光工艺中,作为掩膜板资料的玻璃与硅片的热收缩系数的差要求越来越小。直径100um的硅片,温度上升1度,就惹起了0.24um线性收缩,以是要有±0.1度的恒温,同时要求湿度值普通较低,由于人出汗当前,对产品将有净化,是怕钠的半导体车间,这种车间不宜高于25度。
  湿渡过高会发生的题目也许多。绝对湿度大于55%时,污染工程冷却水管壁上会结露,假如发作在安装或电路中,就会惹起很多变乱。绝对湿度在50%时易生锈。污染工程要控制温湿度详细有什么步伐?
  但是关于大局部干净空间,为了不让外界净化侵入,需求坚持内压力(静压)高于内部的压力(静压)。压力差的维持普通应契合以下准绳:
  1、干净度种别高的空间的压力要高于相邻的干净度种别低的空间的压力。
  2、雷同干净室之间的门要开向干净度种别高的房间。
  3、干净空间的压力要高于非干净空间的压力。
  压力差的维持依托新风量,这个新风量要能赔偿在这一压力差下从漏洞漏泄失的风量。以是压力差的物理意义便是漏泄风量经过干净室的差别漏洞时的阻力。
  关于乱流干净室由于次要靠氛围的浓缩作用来增加室内净化的水平,以是次要用换气次数规范,而不间接用速率的标注,不外对室内气流速率也有如下要求:
  1、送风口出口吻流速率不宜太大,和单纯空调房间相比,要求速率衰减快,分散角度大。
  2、吹过程度面的气流速率(比方侧送时回流速率)不宜太大,以免吹起外表微粒重返气流,而形成再净化,这一速率普通不宜大干0.2m/s。
2020/05/11 11:00:10 29 次

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